|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 635 van 871 gevonden artikelen
| Titel: |
Range distributions and thermal-annealing properties of low-energy arsenic and indium implants in silicon |
| Auteur: |
Whitlow, H.J. Blood, P. Farmery, B.W. O'Connor, D.J. Shannon, J.M. Thompson, M.W. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research |
| Paginering: | Jaargang 200 (1982) nr. 2-3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1982 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 635 van 871 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |